純圧縮ガスの流量測定

半導体製造において、窒素（HP N2）、アルゴン（HP Ar）、ヘリウム（HP He）、クリーンドライエア（CDA）などの高純圧縮ガスが、さまざまなプロセスで非常に重要な役割を果たしています。 窒素は一般的に、パージと不活性封入液に使用され、酸化や汚染を防止します。 アルゴンは不活性な性質を持ち、正確な材料除去と堆積を保証するため、プラズマエッチングとスパッタリングに不可欠です。 優れた熱伝導率を持つヘリウムは、冷却システムや漏れ検出に必須です。 クリーンルーム環境では、厳格な品質基準を維持するために、汚染物質のない純粋な空気が使用されます。

 

これらの高価なガスの流量測定は、一貫したコスト管理、プロセス制御、効率性、安全性を確保するために重要です。 正確な流量監視により、正確なガス供給が可能となり、無駄を最小限に抑え、製造プロセスにおける最適なパフォーマンスを確保できます。